第286章 中芯的接管

说罢，不等王工解释，许浪又转向cmp组的负责人。

“张工，cmp的碟形缺陷，你们一直在换抛光垫和抛光液，这是为什么？”

张工一愣，虽然不知道许浪为什么问这个，但还是快速解释着。

“许总，国产抛光液就是不行，台电用的那款我们又买不到，只能采用这种方法。”

“嗯，不一定是抛光液的问题，我看过你们提交的资料，你们的抛光头压力分布是均匀的，但中心区域的抛光速率比边缘快，或许可以尝试一下把中心压力调低，边缘压力调高。”

许浪不停地介绍着，一个一个困扰的问题都被许浪点出，虽然其中不一定就是最终的解决方案，但确实给到了众人很多新的思路。

本来这些技术骨干看到一个如此年轻的人成为了中芯的临时负责人，哪怕对方是熊猫科技负责人、龙国首富，但心里依旧有着不少芥蒂。

虽然对方地位高也有钱，但半导体和晶圆代工跟互联网可不一样，涉及到的知识根本不是同一个层次的。

让这么一个外人来领导自己这样的专业人士，这不是乱来吗？

但经过这么一出，众人的表情都变了，一下子就明白了，眼前的年轻人是懂技术的，不但懂技术，对于技术的理解更是比现场众人还要厉害，还特别擅长从一些小数据上分析出问题所在。

但一个新的问题突然出现在众人的脑海里，眼前这个在其他行业都有所成就、在芯片行业又这么厉害的年轻人，到底是怎么学的？难道这个世界上真的有这种看一眼就学会的天才吗？

许浪看着众人的惊讶眼神，笑着解释着。

“好了，我没有你们想的那么厉害，只是你们陷在经验里走不出来了，有时候跳出这些实验数据，从系统层面看问题反而更清楚。接下来一个月，我会带领你们一步一步地解决这些问题，大家先按照我刚才提出的问题去重新检查，确定真正的问题所在。”

......

1天后，依旧是这个会议室，依旧是之前那些技术人员，只不过众人的表情已经彻底变了。

看到许浪走进来，几个负责人再也忍不住了，直接站了起来。

“许总，我们检查了，晶圆在传送过程中会产生0.5至1nm的热变形，导致光刻层与层之间的对准偏差超过5nm......”

“许总，抛光过程中确实有问题，铜层的抛光速率不均匀，晶圆中心抛光快，边缘抛光慢，导致金属层表面粗糙度超过0.8nm......”

“许总，应用材料viista离子注入机的扫描均匀性确实不足，我们检查到晶圆中心与边缘的离子掺杂浓度差异高达18%......”