第271章 再一次成功，跨上台阶
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  第271章 再一次成功，跨上台阶
  周志强是好几天都没回总厂了，而且同样是好几天没回家里去了。
  新光刻工艺的实验已经接近尾声，这两天就是不断实验的过程。
  实验车间内，一台被改进的已经和接近式光刻机相似的设备、不对，应该说本来就具备接近式光刻工艺原理的光刻设备，正准备运行。
  技术人员一边检测一边准备操作，如果这已经是周志强带人进行的第三次微调。
  如果这次失败，他们依旧要寻找修改微调的地方，成功的话，那他们就实现了半自动化生产半导体硅片。
  以后不单单是生产效率提升了一大截，就连用这台光刻设备生产出来的半导体硅片都可以让集成电路的性能大大提升。
  透镜单元一致性复检通过，误差在万分之三内；光源预热完成，功率趋向稳定，具备了实验的可行性。
  掩膜版已精确装载、对准；硅片涂胶也完成了，参数符合最开始的计算设定
  技术人员在林工的带领下，将所有仪器设备全部检查了一遍，确保所有数值都达到开始实验加工的界限后，才转头向周志强和赵成辉两人点点头。
  “开始吧，第三次加工试验。”
  “是。”
  技术操作人员也有些紧张的深呼一口气，随后便按下了启动按钮。
  在设备开始运行后，轻微的嗡鸣声响起。
  设备内部，经过无数次优化调整的匀光系统开始工作。